VENA系列自動匹配器用于真空鍍膜、等離子刻蝕、等離子清洗、物理氣象沉積,化學(xué)氣象沉積,磁控濺射,以及太陽能制造設(shè)備PECVD等設(shè)備當(dāng)中,主要功能是實(shí)現(xiàn)全自動匹配,解決了現(xiàn)在國內(nèi)真空鍍膜設(shè)備中的一個(gè)技術(shù)空缺;具有自動,快速,可靠,高效,準(zhǔn)確,節(jié)省人力和時(shí)間等特點(diǎn)??蛇x的射頻系統(tǒng)檢測模塊可實(shí)時(shí)檢測出系統(tǒng)的正反功率、駐波比、射頻信號峰值電壓、電流、直流偏置電壓等,從而使您能夠發(fā)現(xiàn)并顯著降低制程變化性。
優(yōu)勢
●性能安全可靠,長時(shí)間工作穩(wěn)定
●實(shí)時(shí)反射功率測量與控制
●優(yōu)化設(shè)計(jì)、安裝、使用與維修十分簡便
●傳輸效率高,運(yùn)行噪音小
●屏蔽效果好
●可外接匹配控制盒,與其他射頻功率發(fā)生器配合使用
特點(diǎn)
●加強(qiáng)了鍍膜與刻蝕工藝的控制
●優(yōu)化的匹配算法加速匹配時(shí)間
●最大限度地減少駐波比與反射功率
●嚴(yán)格的可靠性測試
使用參數(shù):
匹配功率范圍 | 0-2000W |
工作頻率: | 13.56MHZ |
正常工作反射功率 | <3W |
匹配時(shí)間 | <3S |
傳輸效率 | >90% |
匹配器電源 | AC220V/50-60HZ |
輸入連接器 | N型 |
輸出連接器 | UHF |
控制模式 | 手動/自動 |
可設(shè)預(yù)置點(diǎn)數(shù) | 7 |
匹配阻抗范圍 | 實(shí)部0-80Ω 虛部-j200-j200(可根據(jù)負(fù)載調(diào)節(jié)阻抗) |
匹配器尺寸 | 450X294X151MM |
整機(jī)重量 | 9.5KG |
冷卻方式 | 強(qiáng)制風(fēng)冷加水冷 |